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    “中國芯”關鍵材料國產化

    三甲硅烷基胺 (TSA)
    • 中文名:三甲硅烷基胺
    • 英文名:Trisilylamine
    • CAS號:13862-16-3
    • 用途:通過流動化學氣相沉積(FCVD)形成氧化硅
    • 純度指標:99.65%
    • 規格:公斤級
    二異丙氨基硅烷 (DIPAS)
    • 中文名: 二異丙氨基硅烷
    • 英文名:Diisopropylaminosilane
    • CAS號:908831-34-5
    • 用途:通過化學氣相沉積(CVD)形成含硅薄膜
    • 純度指標:8N
    • 規格:公斤級
    三乙硅烷基胺 (TDSA)
    • 中文名:三乙硅烷基胺
    • 英文名:Trisdisilanylamine
    • CAS號:14635-45-1
    • 純度:≥98.0%
    • 用途:通過化學氣相沉積(CVD)或原子層沉積(ALD)形成含硅薄膜
    • 規格:公斤級
    1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷 (TADS)
    1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷 (TADS)
    • 中文名:1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷
    • 英文名:1,1,1-Tris(dimethylamino)disilane
    • CAS號:2273763-87-2
    • 純度:≥99.0%
    • 用途:通過等離子體加強原子層沉積(PEALD)形成高密度氧化硅
    • 規格:公斤級
    二異丙氨基乙硅烷 (DPDS)
    • 中文名:二異丙氨基乙硅烷
    • 英文名:Diisopropylaminodisilane
    • CAS號:151625-25-1
    • 純度:≥99.0%
    • 用途:通過氣相沉積形成晶種層
    • 規格:公斤級
    1,1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷 (DCDADS)
    • 中文名:1,1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷
    • 英文名:1,1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
    • CAS號:2152681-89-3
    • 純度:≥99.0%
    • 用途:通過等離子體加強原子層沉積(PEALD)形成氮化硅
    • 規格:公斤級
    五氯乙硅烷 (PCDS)
    • 中文名:五氯乙硅烷
    • 英文名:Pentachlorodisilane
    • CAS號:31411-98-0
    • 純度:≥99.0%
    • 用途:通過等離子體加強原子層沉積(PEALD)形成氮化硅
    • 規格:公斤級
    1,1,1-三氯乙硅烷 (3CDS)
    • 中文名:1,1,1-三氯乙硅烷
    • 英文名:1,1,1-Trichlorodisilane
    • CAS號:78228-96-3
    • 純度:≥99.0%
    • 用途:通過等離子體加強原子層沉積(PEALD)形成氮化硅
    • 規格:公斤級
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