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  • 創新南大

    打造具有國際競爭?的?純電?材料研發創新中?


    四大核心技術優勢

    持續攻克“卡脖子”,打破封鎖,創造了許多項“中國第一”

    中國制造的第一瓶三甲基鎵、三甲基銦、三甲基鋁、三乙基鎵等MO源產品;
    第一瓶砷烷、磷烷
    第一支193nm ArF光刻膠
    • 863

      國家高技術研究發展計劃
    • 02

      專項計劃
    • 17%

      碩?學位以上占?
    • 215

      研發專家

    科研實力

    江蘇南?光電研發中?致?于國家急需的關鍵電?材料的研發和產業化,研發?向 包括先進光刻膠、特種?體、泛半導體材料、原?層沉積前驅體及OLED有機新材料等。

    實驗室

    實驗室

    中?擁有13500平?現代化實驗室以及眾多先進的研發、分析、測試設備,包括 193nm浸沒式光刻機1臺、?分辨核磁5臺、ICP-MS4臺、ICP-OES 2臺、各種 質譜3臺以及進?升華儀.蒸鍍機、熒光光譜儀.OLED光電測試lVL系統等其他?型儀器。

    創新平臺

    創新平臺

    國家?新技術企業
    江蘇省?純電?材料?程研究中?
    江蘇省企業技術中?
    江蘇省?純?屬有機化合物MO源材料?程技術研究中?
    博?后科研?作站
    江蘇省外國專家?作室
    材料科學姑蘇實驗室

    研發團隊

    研發團隊

    中?擁有研發?員215?,其中外籍專家9?,國家級重大人才工程3人,江蘇省“雙創?才”7名,姑蘇創新創業領軍?端?才6名。團隊中博?學位14名,碩?學位以上占?超過17%。

    技術突破

    • 打破封鎖

      1986年,MO源作為前驅體核心材料納入國家高技術發展計劃。
      2000年,南大光電成立,MO源成功實現產業化,成功打破“巴統”和國外公司的技術壟斷,并在“神舟”飛船、“東4”大衛星平臺系列衛星等航天器的太陽能電池上成功得到運用,為我國航天事業和國防建設的發展做出了突出的貢獻。

    • 產業提升

      2016 年,承接國家“02-專項”,現已建成具備合成、純化、分析、封裝等功能的ALD前驅體研發中心和生產線,完全滿足相關芯片產品的制造要求。

    • 國際領先

      2017年11月,引入陶氏化學的高K三甲基鋁生產線,2020年10月正式投產,在開發高端半導體的進程中,扮演關鍵材料供應商的重要市場角色。 2020年12月,跨國并購杜邦集團19項專利資產組,6項技術屬于全球首創技術,一舉邁入國際領先的前驅體材料企業行列。

    • 自主創新

      2013年,獲得國家“02-專項”高純特種電子氣體研發與產業化項目支持。
      2016年,經過3年的技術開發,成功實現了國內30年未能解決的高純砷烷、磷烷等特種電子氣體的研發和產業化難題,一舉打破了國外技術封鎖和壟斷,為我國極大規模集成電路制造提供了核心原材料。

    • 替代進口

      目前,砷烷品質己達到7N,技術居全球前列,產能躍居全球第一,并進入國際一流公司供應鏈。磷烷的技術水平也已居全球前列,產能為全球第二。

    • 產業整合

      2019年8月,南大光電成功并購飛源氣體,開始布局氟系列電子特氣。依托南大光電客戶、機制和技術優勢,進行60多項技術創新,迅速提升產能、品質,降低成本,二年實現三氟化氮產能4000噸、六氟化硫產能3000噸,成本全球領先,產能國內第二、全球第三。

    • 國際領先

      2017年11月,引入陶氏化學的高K三甲基鋁生產線,2020年10月正式投產,在開發相關半導體的進程中,扮演關鍵材料供應商的重要市場角色。
      2020年12月,跨國并購杜邦集團19項專利資產組,6項技術屬于全球首創技術,一舉邁入國際領先的前驅體材料企業行列。

    • 打破技術封鎖

      2017年,公司承接國家“02-專項”高分辨率光刻膠產品關鍵技術的研究項目,達到光刻膠基礎配方分辨率相關技術節點要求和項目原定的技術指標要求,得到了“02-專項”項目驗收專家組的高度認可。
      2018年,02重大專項實施管理辦公室決定由我司承擔193nm浸沒式光刻膠產品開發和產業化項目,向我國真正擁有ArF光刻膠產品的方向繼續邁進。

    • 實現產業化

      2019年底,公司在寧波市北侖區完成了第一條光刻膠生產線建設,產能達到10噸/年的規模, 第二條光刻膠生產線于2020年完成建設,總產能達到25噸/年。同時在國家重大科技攻關項目的支持下,向光刻膠配套原材料領域展開技術攻關。
      2020年4月,成為中國首個購買ASML 193nm浸沒式光刻機的電子材料企業。
      2020年底和2021年5月,193nm ArF光刻膠先后通過存儲和邏輯兩家芯片制造企業的驗證,為量產打下了堅實基礎,成為國內首個通過驗證的ArF光刻膠產品,ArF光刻膠研發和產業化取得關鍵性突破,被列為國家攻克“卡脖子”工程的標桿。
      2021年建黨100周年前夕,順利通過國家“02-專項”驗收。

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